該真空蒸鍍設備用于CIGS相關材料的熱蒸鍍。具體應用于CIGS薄膜太陽能電池中銅-銦-鎵-硒層的沉積。該真空蒸鍍設備由傳輸系統、多個加熱/冷卻站和沉積腔體組成。它能提供***的熱沉積技術,該技術材料利用率高,膜層厚度非常均勻。該設備融合稼動率和機械良率高的特點,可謂***佳***靈活的生產平臺。
主要特征
高產能
模塊化腔室設計
布局可靈活多變,以滿足不同客戶的生產需求
獨特的腔室設計,確保蒸發源利用率***大化(腔室壁上沉積***小化)
較快的沉淀速度和較高的工藝重復性
***的流體均勻性
方便快速的蒸鍍源補充/更換
溫度均勻性優良
基片預加熱功能
實時監控流量和溫度