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去膠清洗臺
設備名稱：去膠清洗臺適用于：2-6寸晶圓清洗產品規格控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）整機尺寸： ...
更新:2014-01-11
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顯影清洗設備
名稱：顯影清洗設備產品規格控制模式：全自動控制總體規格：6300mm(L)×1300mm(W)×1850mm(H)工件材料：ITOGLASS / FILM
更新:2014-01-11
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玻璃基板中間水洗設備
產品GLASS670mm(L)*550mm(W)*(T=3mm)產能傳輸軌道單軌道輸送方式，軌道有效寬550mm工作方向自左向右或從右向左由客戶定方向傳輸速度速 ...
更新:2014-01-11
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柔性材料清洗設備
設備參數 設備型號 KZ-FD-C-BRW-6A設備規格 25350mm*1250mm*1500mm（L*W*H）設備亮點 功能顯影-蝕刻-脫膜 產能 單道輸送
更新:2014-01-11
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全自動SPM超聲清洗設備
設備名稱：全自動SPM超聲清洗設備產品規格設備型號：KZIC-T-CW-04A整機尺寸：2500mm(L)X1950mm(W)X2100mm(H)(尺寸可據客戶需求改變）生 ...
更新:2014-01-11
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有機清洗設備
設備名稱：有機清洗臺適用于：2-6寸硅片清洗產品規格控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）總體規格： ...
更新:2014-01-11
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蝕刻清洗機
設備名稱：蝕刻清洗機適用于：2-6寸晶圓刻蝕清洗產品規格控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）總體規 ...
更新:2014-01-11
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酸清洗臺
設備名稱：酸清洗臺適用于：2-6寸硅片清洗產品規格控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）總體規格： 12 ...
更新:2014-01-11
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堿清洗臺
設備名稱：堿清洗臺適用于：2-6寸硅片清洗產品規格控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）總體規格： 12 ...
更新:2014-01-11
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顯影清洗臺
設備名稱：顯影清洗臺適用于：2-6寸晶圓清洗產品規格控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）整機尺寸： ...
更新:2014-01-11
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背拋光刻蝕清洗設備
技術優勢：1.可觀的電池效率提升，根據不同的工藝基礎，可提升0.2%-0.3%。2.集擴散后拋光和濕法刻蝕與一體（專利技術），無需額外設備 ...
更新:2014-01-11
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全自動LED化學清洗機
設備名稱：全自動LED化學清洗機適用于：2-6英寸LED基板清洗產品規格控制模式：全自動控制
更新:2014-01-11
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高溫磷酸清洗機
設備名稱：高溫磷酸清洗機適用于：2-6英寸硅片清洗工藝流程：上料→預熱→蝕刻1→蝕刻2→降溫→QDR→下料產品規格控制模式：全自動控制
更新:2014-01-11
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腐蝕清洗臺
設備概況：A.設備名稱：腐蝕清洗臺B. 設備型號：KZIC-T-IOGSW-04BC. 整機尺寸：約2400mm（L）×1000mm(W)×1850mm(H)；D. 操作臺面高度： ...
更新:2014-01-11
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無機顯影清洗臺
一、 設備概況A. 設備名稱：無機顯影洗機臺B. 設備型號：KZIC-T-WJDW-04BC. 整機尺寸：約1500mm（L）×1200mm(W)×1800mm(H)；D. 操作臺 ...
更新:2014-01-11
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有機去膠清洗臺
一、 設備概況：A. 設備名稱：有機去膠清洗臺B. 設備型號：KZIC-T-OGSW-05BC. 整機尺寸：約1700mm（L）×1300mm(W)×1850mm(H)；D. 操作 ...
更新:2014-01-11
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多晶制絨清洗設備
設備簡述設備名稱：多晶制絨清洗設備適用于：用于多晶硅電池生產線中的酸腐蝕制絨和擴散前清洗工序
更新:2014-01-11
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石墨舟清洗機
設備名稱：石墨舟清洗機產品規格：控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）設備尺寸：3500mm（L）*1100mm ...
更新:2014-01-11
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石英管清洗機
設備名稱：石英管清洗機產品規格：控制模式：半自動控制（工件搬運為手動操作，工藝參數控制過程為自動）設備尺寸：3200mm（L）*580mm ...
更新:2014-01-11
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單晶制絨清洗機
適用于：單晶硅電池生產線的切片后去損傷層、清洗、和制絨控制模式：全自動控制產品特點：骨架由優質碳素結構鋼Q235A，外包3mm的PP板防 ...
更新:2014-01-11
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